The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki,Osaka Japan 567-0047,Japan Science and Technology Agency, CREST, c/o Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka Japan 567-0047;
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki,Osaka Japan 567-0047,Japan Science and Technology Agency, CREST, c/o Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka Japan 567-0047;
EUV; lithography; resist; polymer; deprotonation; quantum chemical calculation;
机译:EUV抗蚀剂聚合物电离的理论研究
机译:极紫外光致抗蚀剂聚合物电离的理论研究
机译:含氟聚合物对EUV光刻胶的辐射化学研究
机译:EUV抗蚀剂聚合物自由基阳离子去质子的理论研究 - (PPT)
机译:阳离子自由基化学的机理和理论研究:聚合的阳离子自由基机理,极性与阳离子自由基机理以及内球与外层空间电子转移。
机译:关于一系列单二三和四氯噻吩以及相应的自由基阳离子形式作为导电聚合物单体的电子结构性质和反应性的理论研究
机译:基于酸性催化聚合物骨架断裂的超敏感EUV抗蚀剂
机译:TNT的热化学分解:自由基鉴定与理论研究