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机译:含氟聚合物对EUV光刻胶的辐射化学研究
Hokkaido Univ, Fac Engn, Div Quantum Sci & Engn, Sapporo, Hokkaido 0608628, Japan;
Hokkaido Univ, Fac Engn, Div Quantum Sci & Engn, Sapporo, Hokkaido 0608628, Japan;
Osaka Univ, ISIR, Osaka 5670047, Japan;
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Hokkaido Univ, Fac Engn, Div Quantum Sci & Engn, Sapporo, Hokkaido 0608628, Japan;
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机译:辐射敏感的新型高分子抗蚀材料:迭代合成及其EUV碎片研究
机译:EUV抗蚀剂聚合物电离的理论研究
机译:EUV抗蚀剂评估EB抗蚀剂仿真研究
机译:基于氟化聚合物的高灵敏度EUV抗蚀剂
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:面向文化遗产的新型氟化甲基丙烯酸涂料:聚合物与表面化学结合的研究
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