CEA, LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France,STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet F-38926 Crolles Cedex;
STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet F-38926 Crolles Cedex;
CEA, LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet F-38926 Crolles Cedex;
STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet F-38926 Crolles Cedex;
LTM CNRS/UJF Minatec 17, avenue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex 9, France;
LTM CNRS/UJF Minatec 17, avenue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex 9, France;
STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet F-38926 Crolles Cedex;
STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet F-38926 Crolles Cedex;
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Si_3N_4 etching; wet etching; CDE; Chemical downstream etching; CMOS;
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