IV. Physikalisches Institut, Universitaet Goettingen, Bunsenstrasse 11-15, DE-37073 Goettingen, Germany;
dislocations; DLTS; electrical properties; point defect clouds; silicon;
机译:点缺陷云在硅脱位处的电气效应通过深度瞬态光谱研究
机译:从深层瞬态光谱学和其他技术研究掺硼金刚石同质外延层中的电活性缺陷
机译:用深能级瞬态光谱研究H注入硅中缺陷形成的角度依赖性
机译:深能级瞬态光谱研究He注入的n-6H-SiC中的深能级缺陷
机译:用深层瞬态光谱法(DLTS)表征4H-SiC的缺陷及其对器件性能的影响
机译:自组装分子单层膜对磷掺杂硅的深层瞬态光谱研究
机译:从深层瞬态光谱学和其他技术研究掺硼金刚石同质外延层中的电活性缺陷