Northeastern University, Shenyang 110004, China;
Shen Yang Vacuum Technology Institute, Shenyang 110042, China;
magnetron sputtering; thin film thickness uniformity; target-substrate distance; numerical calculation;
机译:使用紧凑型溅射设备沉积具有出色c轴取向和均匀厚度的Co-Cr膜用于刚性磁盘
机译:通过在反应溅射过程中使用负衬底偏压沉积致密且均匀的TiN膜来提高生物医学Co-Cr的硬度
机译:钼溅射不锈钢基体上电化学沉积铜薄膜的形貌和厚度控制
机译:平面基材上溅射沉积薄膜厚度均匀性研究
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:靶成分和溅射沉积参数对沉积在聚合物基底上的氮化银-坡莫合金柔性薄膜功能性能的影响
机译:矩形平面溅射靶沉积的薄膜厚度均匀性研究