Si 含有DLC 成膜用テトラメチルシランプラズマ特性の計測: プラズマ基礎特性のガス流量依存性

摘要

ダイヤモンドライクカーボン（Diamond-Like Carbon以下DLC）膜の成膜方法にはプラズマ支援化学気相成長(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition，以下PECVD) 法が多く用いられている．このとき，投入電力・ガス圧力といった外部パラメータをコントロールすることによってPECVD法で作製されたDLC 膜の物体表面の硬さや摩擦係数などの特性を広い範囲で変化させることが出来ることが知られている．特にSi含有DLC 膜は各種DLC 膜の中でも低い摩擦係数を示し，低摩擦性が要求される自動車部品等として期待されている．この時，Si 含有DLC 成膜にテトラメチルシラン (Tetramethylsilane，以下TMS)ガスが用いられているが，TMS プラズマ中の反応過程について未解明なものが多く，特に解離過程については明らかになっていないのが現状である．