Central Iron Steel Reserch Institute , Beijing 100081;
Advanced Technology Materials Co., Ltd, Beijing 100081;
Central Iron Steel Reserch Institute , Beijing 100081;
Advanced Technology Materials Co., Ltd, Beijing 100081;
Central Iron Steel Reserch Institute , Beijing 100081;
Central Iron Steel Reserch Institute , Beijing 100081;
Central Iron Steel Reserch Institute , Beijing 100081;
film; sputtering target; growth mechanism; phase structure;
机译:用纯金属Zn靶法制备ZnO薄膜制备的ZnO薄膜结构与性能的比较研究和ZnO陶瓷靶
机译:直流磁控溅射与高功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下生长CNX薄膜的比较研究
机译:具有不同惰性气体的CNX薄膜生长的直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射工艺的对比研究
机译:磁控溅射不同相结构Ti33Al67靶的薄膜对比研究
机译:射频磁控溅射沉积的氧化钇稳定的氧化锆薄膜的结构和材料性能评估。
机译:反应磁控溅射制备二元氧化铜薄膜的相变和物理性质
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下CNX薄膜生长的比较研究