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张国君; 马杰; 安耿; 孙院军;
西安交通大学,陕西西安710049;
西安理工大学,陕西西安710048;
金堆城钼业股份有限公司,陕西西安710077;
钼靶材; Mo薄膜; 择优取向; 电性能;
机译:直流磁控溅射沉积ZnO薄膜:靶材配置对薄膜性能的影响
机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:靶材与衬底之间的距离对直流磁控溅射制备的TGZO薄膜性能的影响
机译:磁控溅射薄膜涂层材料特性及摩擦学性能研究
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:磁控溅射从复合靶材上沉积的低氧化学计量外延ZrB2薄膜:沉积温度和溅射功率的影响
机译:沉积条件对射频磁控溅射mos2薄膜的影响
机译:用于通过磁控溅射沉积不同材料的合金,混合物或不同产物的反应层的涂覆装置具有由同心布置的局部靶材制成的靶材,每个靶材均由待沉积材料制成
机译:纯锡靶材料的掺氟氧化锡薄膜的制备及利用磁控溅射法的方法
机译:用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材,用于制造磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材和用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材
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