公开/公告号CN112899627A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-04
原文格式PDF
申请/专利权人 重庆电子工程职业学院;
申请/专利号CN202110058551.3
发明设计人 卢静;
申请日2021-01-16
分类号C23C14/35(20060101);
代理机构50278 重庆志一加诚专利代理事务所(普通合伙);
代理人邓波
地址 400000 重庆市沙坪坝区陈家桥镇
入库时间 2023-06-19 11:16:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-27
授权
发明专利权授予
机译: 可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译: 能够有效地在室温下在基板上沉积靶材的磁控溅射装置和磁控溅射沉积系统
机译: 磁控溅射的靶材和磁控溅射系统