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一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法

摘要

本发明公开了一种靶材安装结构、磁控溅射设备及其磁控溅射方法,解决了现有的靶材散热差、使用寿命短的技术问题。本发明包括靶材和背板,所述靶材安装在背板的一侧,其特征在于,所述背板内部设置有散热组件,所述散热组件包括冷却水管和射吸组件,所述冷却水管靠近靶材侧,所述射吸组件位于远离所述靶材,所述冷却水管与射吸组件连接。本发明具有散热效果好,靶材寿命长,冷却水不易掉入真空腔等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN112899627A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆电子工程职业学院;

    申请/专利号CN202110058551.3

  • 发明设计人 卢静;

    申请日2021-01-16

  • 分类号C23C14/35(20060101);

  • 代理机构50278 重庆志一加诚专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人邓波

  • 地址 400000 重庆市沙坪坝区陈家桥镇

  • 入库时间 2023-06-19 11:16:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-27

    授权

    发明专利权授予

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