Sumy State University, 2, Rymskogo-Korsakova St., 40007 Sumy, Ukraine;
D. Serikbaev East Kazakhstan state technical university, 69, Protozanova St., 070004, Ust-Kamenogorsk, Kazakhstan;
Sumy State University, 2, Rymskogo-Korsakova St., 40007 Sumy, Ukraine;
Sumy State University, 2, Rymskogo-Korsakova St., 40007 Sumy, Ukraine;
Coatings; Silicon; Substrates; X-ray scattering; Adhesives; Metals; Lattices;
机译:Nb添加对通过真空抗沉积法得到的单层ZrN基涂层的结构,组成和性能的影响
机译:真空电弧沉积制备(Ti-Zr-Nb)N涂层的物理和力学性能
机译:通过高频真空电弧放电沉积获得的超硬纳米结构Ti-Hf-Si-N涂层的化学计量,相组成和性能
机译:Si添加和沉积条件对通过真空弧沉积制造的(Zr-Ti-CR-NB-Si)N涂层的结构和性能的影响
机译:纳米涂层在通过原子层沉积制造的颗粒上的光学性质。
机译:占空比对阴极等离子体电解沉积TiAl合金制备Al2O3陶瓷涂层性能的影响
机译:真空电弧沉积和高频放电沉积获得的nc-TiN涂层的结构和物理力学性能
机译:沉积条件对高温气冷反应堆燃料颗粒热解碳化硅涂层性能的影响