Institute for Microelectronics, TU Wien, Gußhausstraße 27-29/E360, 1040, Austria;
DRIE variation; TCAD; TSV; process simulation;
机译:聚酰亚胺衬里对通过硅通孔(TSV)高纵横比的影响:电学特性和铜突起
机译:北卡罗来纳州赖茨维尔比奇附近的地质和地下水对电阻率的竞争影响
机译:通过直接应变和电学测量以及FEA仿真分析TSV诱导的应力对器件性能的影响
机译:跨晶圆变化对TSV电气性能的影响
机译:取决于Fin形状和TSV以及3D集成电路中背栅噪声耦合的FinFET电性能仿真。
机译:电导率对电化学的影响层状结构三钒酸锂(LiV3-xMxO8M = Zn / Co / Fe / Sn / Ti / Zr / Nb / Mox = 0.01-0.1)作为储能阴极材料的性能
机译:分析TsV应力引起的晶体管变化和电路性能的方法