Semiconductor Technology Research, IBM Corporation, 257 Fuller Rd, Albany, NY, USA;
capacitance simulation; low-k-damage; multilayer-caps; non-rectangular interconnect;
机译:自动生成互连电容的分析模型
机译:使用共形映射的互连边缘电容分析模型
机译:65纳米以下片上互连的基于现场的电容建模
机译:SUS-10 NM互连的新型分析电容模型
机译:用于VLSI互连建模的寄生电容提取方法
机译:用于模块化生物分析芯片应用的微流体互连中的未对准效应建模
机译:原子层沉积钌与TiN界面的亚10nm以上的先进互连铜
机译:零推进剂负荷情况热电容推进剂测量分析模型的热真空试验相关性。