Atotech (M) Sdn Bhd, Malaysia;
Faculty of Electronic and Computer Engineering, Universiti Teknikal Malaysia Melaka;
Atotech USA Inc., 369 Inverness Pkwy, #350, Englewood CO 80112;
Electromagnetic interference; Plating; Compounds; Nickel; Copper; Adhesives;
机译:金属镀层作为模块封装的EMI屏蔽
机译:通过化学镀技术在聚酰亚胺膜上镀铜以屏蔽EMI
机译:使用模内涂覆(IMC)纳米纸对注塑零件进行电磁干扰(EMI)屏蔽的新方法的技术可行性
机译:模具化合物上的金属电镀EMI屏蔽性能
机译:I.使用超高分辨率VUV光解离和光电离技术在早期太阳星云中进行“一氧化碳自我屏蔽”的实验测试。二。过渡金属化合物的激光烧蚀,光解离和光电离。
机译:金属有机框架衍生Fe-N-C纳米结构作为钠离子电池的高性能电极和电磁干扰(EMI)屏蔽
机译:专用/ EMI屏蔽EMI屏蔽单面化学电镀。
机译:屏蔽接地适配器和复合材料的电磁干扰(EmI)性能