N.P.R Coll. of Eng. Tech, Dindigul, India;
CMOS integrated circuits; MOSFET; Poisson equation; VLSI; semiconductor device models; semiconductor materials; surface potential; work function; 2D analytical channel potential; CMOS integrated circuit; TCAD simulator; VLSI; analytical model; complementary metal oxide semiconductor; metal oxide semiconductor field effect transistor; nanoscale devices; semiconductor material; short channel effects; silicon technology; superposition technique; surface potential profile; triple material double gate MOSFET; two dimensio;
机译:短沟道三材料双栅极(TM-DG)MOSFET的亚阈值电流和亚阈值摆幅的分析模型
机译:基于表面电势的具有si和au纳米点嵌入式栅极电介质的双栅极MOSFET的分析模型,用于非易失性存储应用
机译:双卤栅堆叠三材料双栅MOSFET阈值电压和漏极电流的二维分析模型
机译:三重材料双栅极MOSFET的表面电位型材的可变分离方法基于分析模型
机译:对绝缘体上硅CMOS器件和电路(包括双栅MOSFET)的基于过程的紧凑建模和分析。
机译:工业非危险次生材料环境管理的决策支持:结合分析和优化建模的新分析方法
机译:基于表面势的紧凑型平面和双栅mOsFET量子效应模型