Department of Electrical Engineering, National Institute of Technology, Rourkela, Odisha-769008, Indiac;
Double Gate Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor (DG MOSFET); Short Channel Effects (SCEs);
机译:检查三重材料双栅极硅无氧化金属氧化物半导体场效应晶体管具有等级信道浓度的短频道特性和性能
机译:二维(2D)分析建模和改进的分级通道栅极堆叠(GCGS)双材料双栅极(DMDG)MOSFET的简短信道性能
机译:具有梯度沟道掺杂的垂直nMOSFET改善了热载流子和短沟道性能
机译:纳米MOSFET使用分级渠道工程性能提升和降低纳米MOSFET的效应
机译:III型氮化物HEMT的通道工程,以增强设备性能。
机译:短分离频道位置会影响NIRS中短信回归的性能
机译:短通道效应和 ud的研究基于多目标遗传算法的纳米mosfet性能提升方法 ud