【24h】

Deep Sub-micron CMOS ICI_DDQ Testing

机译:深亚微米CMOS ICI_DDQ测试

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

The I_DDQ testign for deep sub-micron CMOS IC is investigated. Two isues of low supply voltage and subthreshold leakage current are considered.Based on the theoretical results, as COMS technology moves into deep sub-micron region, the gap between faulty I_DDQ and faulty-free I_DDQ can be seen to decrease in deep sub-micron region. Some of methods are provided to solve this problem, and can be used for deep sub-micron I_DDQ testing. The purpose of this paper is to analyze the effectiveness of I_DDQ testing in deep sub-micron CMOS IC.
机译:研究了深亚微米CMOS IC的I_DDQ测试。考虑了低电源电压和亚阈值泄漏电流这两个问题,基于理论结果,随着COMS技术进入深亚微米区域,故障I_DDQ和无故障I_DDQ之间的差距可以看到在深亚微米范围内减小区域。提供了一些方法来解决此问题,并且可用于深亚微米I_DDQ测试。本文的目的是分析I_DDQ测试在深亚微米CMOS IC中的有效性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号