一种利用线圈组合改善蒸镀时掩膜形变的设计

摘要

蒸镀制程中采用掩膜对蒸镀材料进行遮挡以实现特定图案的成膜;然而掩膜受重力作用会产生形变,影响蒸镀的良率.本设计将亥姆霍兹线圈和反亥姆霍兹线圈进行组合,以产生均匀磁感应强度磁场和均匀梯度磁场的叠加,从而对由铁磁材料制成的掩膜产生均匀的作用力.理论推导和数值模拟均表明,该方法是有效的;通过调整线圈的电流将该作用力调节至比重力略大则可消除掩膜的形变.与传统的永磁铁阵列相比,该设计的主要优点在于在竖直方向一定范围内磁作用力的变化较小,掩膜接近玻璃基板的速度容易控制并具备了调控的可能.除圆形线圈组合外,还给出了正方形线圈组合的相关推导和讨论.