清洗刻蚀源的磁场分析

摘要

一个离子源中电磁场的设计好坏与否决定了这个离子源工作的好坏。本文着重分析介绍了一个适用于清洗和刻蚀用的大束密均匀区双发射离子束源的磁场计算、结构及其工作原理,根据磁路理论,并利用Quickfield二维有限元分析软件对电磁场分布进行模拟,计算结果满足了离子源对电磁场的设计要求。