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一种新型深紫外光刻胶

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本文利用t-BOC保护的对羟基苯乙烯与马来酸酐衍生物的交替共聚物作为成膜树脂.该聚合物在248nm处有较好的透明性,在常用有机溶剂中具有良好的溶解性.由于结构中含有BOC基团使得该聚合物具有好的酸解活性,加入光产酸剂可组成一种新型深紫外两组分化学增幅型光致抗蚀剂.曝光过程产生磺酸,通过120℃后烘使BOC保护基团发生酸致分解,从而使得曝光区与未曝光区溶解度产生大的差异,可用稀碱水显影得到正性图像.

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来源
《中国感光学会第九次会员代表大会暨2014年学术年会》|2014年|130-132|共3页
会议地点北京
作者
ZHANG Chen-ying; 张晨颖; WANG Li-yuan; 王力元;
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作者单位

中国感光学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TQ577.35;
关键词
光致抗蚀剂; 化学增幅; 制备工艺; BOC基团; 酸解活性; 紫外线吸收性能;

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