Al-Si-Cu/TiN/Ti/n+Si多层接触抗电迁移特性改善

摘要

该文研究了快速热退火（ＲａｐｉｄＴｈｅｒｍａｌＡｎｎｅａｌｉｎｇ，ＲＴＡ）工艺对ｎ＋扩散区上Ａｌ－Ｓｉ－Ｃｕ／ＴｉＮ／Ｔｉ多层接触可靠性的影响。