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余尚先;
安息香;
机译:复杂分子刷体系结构的先进光致抗蚀剂技术:基于双嵌段刷三元共聚物的正性光致抗蚀剂材料
机译:电子束光刻中正性化学放大抗蚀剂的抗蚀剂轮廓模拟的一些特殊性
机译:碱性可显影正性抗蚀剂的新概念:利用酸催化从草酰苯并降冰片二烯转变为萘酚的分子抗蚀剂
机译:朝向受控抗蚀剂线条边缘粗糙度:化学放大正性抗蚀剂中线条边缘粗糙度的材料来源
机译:极紫外光致抗蚀剂:薄膜抗蚀剂的薄膜量子产率和LER。
机译:机械磨损的水溶性剥离抗蚀剂和裸基板的无光致抗蚀剂图案化:朝向透明电极的绿色制备
机译:正性光树脂在紫外线下的光化学分解研究正性光致抗蚀剂在紫外线下的光分解
机译:使用EDTa亚铁和具有组合抗氧化和还原性能的多酚化合物增强烟气脱氮。
机译:合成多酚化合物的方法和由多酚化合物组成的正性光致抗蚀剂组合物
机译:多酚化合物,化合物,正性抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法
机译:多酚化合物,酯化的醌二叠氮化物和正性光致抗蚀剂组合物
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