机译:碱性可显影正性抗蚀剂的新概念:利用酸催化从草酰苯并降冰片二烯转变为萘酚的分子抗蚀剂
CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST; HIGH-RESOLUTION; ELECTRON-BEAM; NANOMETER LITHOGRAPHY; ORGANIC RESISTS; EUV LITHOGRAPHY; NM LITHOGRAPHY; THICKNESS LOSS; DESIGN;
机译:碱性可显影正性抗蚀剂的新概念:利用酸催化从草酰苯并降冰片二烯转变为萘酚的分子抗蚀剂
机译:电子束光刻中正性化学放大抗蚀剂的抗蚀剂轮廓模拟的一些特殊性
机译:基于多酚的正电子EB抗蚀剂-抗蚀剂遮光膜
机译:用于ARF准分子激光光刻利用酸催化的分子内酯化的微孔负抗性
机译:基于电阻率概念的岩土离心机模型中的电定位,层析成像和孔隙度测量。
机译:引入d氨基酸或简单苷为小肽启用超分子水凝胶反抗蛋白水解
机译:用于ARF相移光刻的微膨胀负抗蚀剂利用酸催化的分子内酯肌酸肌肌。
机译:氨基二硅烷作为甲硅烷基化剂,用于干法显影的正极性抗蚀剂,用于极紫外(13.5)微光刻