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粱怀舒; 曹友新;
中国电子学会;
干膜显影; 印制电路板; 图形转移; 水洗; 热风干燥;
机译:使用湿显影型单层和干显影工艺进行EUV光刻的分辨率预测
机译:显影分离膜提高内容物的剥离性
机译:通过膜印迹提高放射自显影和荧光照相的敏感性
机译:干显影冲洗过程可通过减少图案塌陷来提高最终分辨率
机译:茚满二酮在纸上指纹检测中的应用方法评价:正常处理,真空显影和干转移
机译:ROCK抑制剂Y-27632通过改善黏膜干/祖细胞的黏附和清除ROS的能力提高其克隆效率
机译:双干膜膜在高流量鼻腔套管治疗过程中提高氧气,用于急性低氧呼吸呼吸衰竭
机译:用于干式显影正极性抗蚀剂的高硅含量甲硅烷基化试剂,适用于极紫外(13.5 nm)和深紫外(248 nm)微光刻
机译:干显影的光敏干膜抗蚀剂,由其制成的阻焊膜以及使用干膜抗蚀剂的方法
机译:干显影光敏干膜抗蚀剂,由其制成的阻焊剂以及使用该干膜抗蚀剂的方法
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