首页> 中文会议>第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 >碳化硅X射线光刻掩膜初步研究

碳化硅X射线光刻掩膜初步研究

页面导航

摘要
著录项
引文网络
相似文献
相关主题

摘要

本文报到了采用LPCVD方法制备碳化硅薄膜的初步结果,经XRD分析和背腐蚀成膜实验,获得了面积达20×30mm<'2>的薄膜窗口.此种方法可用于X射线光刻掩模衬基制备.

著录项

来源
《第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会》|2001年|237-238236|共3页
会议地点成都
作者
陈大鹏; 叶甜春; 李兵; 韩劲东; 赵玲莉; 胥兴才;
展开▼
作者单位

中国电子学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
碳化硅; LPCVD; X射线光刻; 光刻掩模; 薄膜材料;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 脉冲软X射线源及光刻的初步研究 [J] . 郭小明 ,罗承沐 . 微细加工技术 . 1996,第002期
2. DCPA光刻胶的软X射线感光灵敏度初步测量 [J] . 郭玉彬 . 微细加工技术 . 1995,第004期
3. 软X射线接触式光刻术的初步实验 [J] . 郭玉彬 ,李福田 . 光学精密工程 . 1993,第004期
4. 不同杂散光模型对光刻掩膜特征尺寸影响研究 [J] . 李艳芳 ,李洋 ,李迎 . 东华理工大学学报（自然科学版） . 2019,第001期
5. 自掩膜光刻工艺研究及在PSS产品中的应用 [J] . 袁根如 . 科技视界 . 2015,第001期
6. 相移掩膜应用于显示技术光刻细线化的初步研究 [C] . Wu-Sheng Li ,黎午升 ,Guan-Bao Hui . 2014中国平板显示学术会议 . 2014
7. 利用相移光刻掩膜版监测光刻机台焦距 [A] . 袁伟 . 2007

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号