用扩散退火制得NdFeB薄膜的磁性能

摘要

自从Nd2Fe14B永磁体发现以来,对其磁性能和应用作了很多的研究.但是,这种磁体很脆,要把块状磁体加工成微米级产品,十分困难.因此,需要直接制成薄膜.在几种潜在的应用中,对Nd2Fe14B薄膜的需求正在增长,例如微型电动机,微电子机械系统(MEMS),磁记录,以及精确控制模拟系统,用这个系统来研究确定硬磁材料磁性能的矫顽力机制.已有人报告过对溅射沉积、分子束外延和激光烧蚀制备Nd2Fe14B薄膜的研究.采用溅射工艺制备薄膜,可以精密控制微晶尺寸,由此研究微观结构在磁性能中的作用.看来,高性能Nd2Fe14B薄膜磁体,要依靠溅射设备(包括基片材料,靶子成分,溅射气氛,溅射速度)和退火条件(退火温度和时间). 本文报告有不同R(R=Nd/NdFeB之厚度比值)溅射多层膜Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta的微观结构,磁性能和扩散退火的影响。