NdFeB薄膜制备及对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响

摘要

本文采用磁控溅射镀膜技术 ,制备NdFeB、TbFe单层及TbFe/NdFeB复合薄膜。通过设计正交试验 ,优化溅射工艺参数。采用振动样品磁强仪、X射线衍射仪对不同热处理温度处理的NdFeB薄膜的磁学性能、晶体结构进行了研究 ,并采用电容位移测量法对TbFe薄膜和TbFe/NdFeB复合薄膜的磁致伸缩系数进行测量。研究结果表明 ,NdFeB薄膜和TbFe薄膜为面内易磁化方向 ,在低于 40 0℃温度下真空热处理 ,薄膜保持非晶态 ,显现较好的软磁性能。与TbFe薄膜复合 ,可以大大降低薄膜的矫顽力 ,其低场磁致伸缩性能优于TbFe单层薄膜 。