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电子束蒸发沉积ITO透明导电薄膜的物理性质研究

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目前制备ITO薄膜方法有蒸发、磁控溅射、反应离子镀、化学汽相沉积、热解喷涂等,本文采讨论用电子束加热蒸镀的方法制备ITO薄膜,并研究ITO薄膜光电特性.

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来源
《第九届全国LED产业研讨与学术会议》|2004年|39-41|共3页
会议地点南昌
作者
田洪涛; 谢雪峰; 吴启保;
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作者单位

中国物理学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类化合物半导体;
关键词
ITO薄膜; 光透射率; 方块电阻; 电子束蒸发沉积; 氧化铟锡薄膜; 半导体导电薄膜; 光电性能;

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