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色谱/质谱联用法测定三氟化氮中痕量氧化二氮

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本文利用GC/MS选择离子监测(SIM)方式测定高纯NF3中痕量N2O,选择m/z为44的碎片离子代表N2O进行定量,同时考察了NF3工艺气物流对所选离子的测定干扰情况,从而实现了对高纯NF3中痕量N2O的准确定量.该方法简单、准确、选择性好,用于对色谱柱不能完全分离组分SF6的测定取得了满意的效果.

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来源
《第十五次全国色谱学术报告会》|2005年|116-117|共2页
会议地点郑州
作者
韦桂欢; 中国船舶重工集团公司第七一八研究所; 闫云; 张洪彬;
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作者单位

中国化学会;

中国色谱学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类质谱分析;
关键词
集成电路; 离子刻蚀; 离子监测; 质谱分析;

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