Al2O3薄膜的制备及在无机EL的应用

摘要

Al2O3薄膜是最为成功的无机EL绝缘薄膜之一.用脉冲反应溅射法制备了厚为50-340 nm的Al2O3薄膜.研究了功率密度、气压和氧气含量等参数对薄膜沉积速率和介电性能的影响.发现在较低功率密度、气压和较高氧气含量下沉积的薄膜的品质因子较好.同时与电子束蒸发的Al2O3薄膜的介电性能作了比较,脉冲反应溅射制备的Al2O3薄膜的漏电流密度要低两个数量级.把上述薄膜应用于ZnS: Mn TFEL器件中,获得了最好的耐压大于320 V、亮度达1760 cd·m-2.