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王辉; 黄勇; 王莉莉; 孙苋; 王海; 王玉田; 杨辉; 贾全杰;
中国电子学会;
InN薄膜; 金属有机物化学气相沉积; 立方相; 同步辐射X射线衍射; 外延取向;
机译:InN上分子束外延生长的六角形InGaN外延层中立方相的生成
机译:高迁移率外延生长立方InN薄膜的高立方相纯度和生长机理
机译:用分子束外延和迁移增强外延研究GaAs(001)衬底上立方InN薄膜的结构特性
机译:新型设计的MOCVD技术实现InN薄膜的高生长速率外延
机译:通过MOCVD生长的高导电性和透明氧化镉薄膜:外延生长和掺杂效应
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:MOCVD法抛光(1 0 0)γ-LiAlO2晶片及其对ZnO薄膜外延生长的影响
机译:mOCVD生长TiO2和VO2薄膜在蓝宝石单晶上的异质外延的X射线衍射研究。
机译:形成通过金属有机汽相外延(MOCVD)生长的氮化铟(InN)和氮化铟镓(InGaN)量子点
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