Lee偏差及其在试验设计中的应用

摘要

近年来,均匀设计与其他设计之问的关联是研究的热点问题之一.为了度量设计的均匀性,文献中己经提出了诸多偏差,如中心化L<,1>-偏差、可卷L-偏差和离散偏差.其中离散偏差可用于建立在均匀设计、部分因子设计和组合设计之间的联系.然而,离散偏差主要处理二水平的设计.为了克服离散偏差在多水平设计的局限性,本文基于编码理论中的Lee距离提出一种新的偏差-Lee偏差,给出其计算表达式及对称设计与非对称设计的偏差下界.同时,给出了Lee偏差与广义最小低阶混杂之间的关系及Lee偏差与优势理论之间的关系,从而找到了一个二水平与三水平设计的Lee偏差更精确地下界.