掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜的SIMS剖析

摘要

环境污染是全世界关注的焦点问题。世界上每年会产生无数有毒固体、气体和液体废物，污染了空气和水源。如何利用太阳光这一绿色能源来消除这些有害物质，是目前很受关注的研究课题。本实验利用二次离子质谱方法(SIMS)对在温度为550℃的NH气氛中，激光烧蚀淀积于硅片上的Ti02薄膜进行掺杂杂质氮的深度剖析。