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ZHANG You-cha; 张有茶; XIA Yang; 夏洋; JIA Yong-chang; 贾永昌; ZHANG Qing-zhao; 张庆钊; WANG Wen-dong; 王文东; LIU Jin-hu; 刘金虎; WAN Cong-yu; 王聪瑜;
全国热喷涂协助组;
热喷涂技术编辑部;
等离子体刻蚀; 腔室内衬; 抗腐蚀涂层; 在线监测;
机译:为改善GaAs / AIGaAs材料的感应耦合等离子体反应离子刻蚀而开发的腔室调节工艺
机译:晶圆刻蚀工艺中等离子刻蚀腔室的维修计划
机译:模拟用于硅蚀刻的Cl_2 / O_2 / Ar电感耦合等离子体:SiO_2腔室壁涂层的影响
机译:腔室和线圈构型对电感耦合等离子体刻蚀机等离子体分布均匀性的影响
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:使用Y2O3和YF3保护涂层的量产CF4 / O2等离子腔室中的腐蚀行为和颗粒污染的比较
机译:腔室压力对缺陷产生的影响及其对HIPIMS沉积CrN / NbN涂层的腐蚀和摩擦学性能的影响
机译:用于染料激光腔光学的高入射角抗反射涂层
机译:真空沉积腔室的等离子体刻蚀原位清洗工艺-激发气体分别进行等离子体放电激发,并使活化的蚀刻气体进入腔室
机译:等离子刻蚀设备的工艺腔室,用于稳定地收集工艺腔室中的等离子体以进行晶片处理并保持晶片的均匀性
机译:等离子体刻蚀设备中污染物捕获的涂层形成方法,副产品颗粒附着力的控制方法以及具有污染物捕获涂层的等离子体腐蚀设备
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