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高志远; 张进城; 郝跃; 倪金玉;
中国有色金属学会;
中国有色金属工业协会;
华南师范大学;
GaN; MOCVD; 生长机理; 腐蚀;
机译:通过HVPE生长比较在MOCVD-GaN / Al_2O_3和MOCVD-GaN / SiC样品上生长的GaN薄膜的应变
机译:低温AlN成核层的厚度对通过MOCVD法在双步AlN缓冲层上生长的GaN的材料性能的影响
机译:拉曼法研究MOCVD生长的单个GaN微棒的表面载流子浓度
机译:利用MOCVD原位反射法研究GaN外延层的生长机理
机译:通过新颖的衬底改性技术在GaN上进行GaN的MOCVD生长。
机译:以AlN / GaN超晶格为阻挡层的MOCVD法生长GaN HEMT中的2-DEG特性
机译:在HpVE生长的模板和自支撑GaN衬底上的N型GaN层的mOCVD生长和蚀刻
机译:金属有机化学气相沉积法(MOCVD)在多孔氮化镓(GAN)模板上生长氮化铟镓(INGAN)
机译:MOCVD用于GAN基半导体的生长
机译:用于GaN基半导体的晶体生长的多晶氮化铝基材料以及使用该材料制造GaN基半导体的方法
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