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朱旭强; 朱利恒;
中国电子学会;
四川省电子学会;
ESD防护; 栅氧化层; 低压触发可控硅; CMOS工艺;
机译:一种锁定的LVTSCR,具有改进的ESD保护的过冲特性,在40 nM CMOS过程中进行ESD保护
机译:用于RFIC的ESD保护的新型双沟槽LVTSCR
机译:LVTSCR结构用于BiCMOS RF电路的无闩锁ESD保护
机译:基于可调高保持电压基于LVTSCR的片上ESD保护的设计
机译:新型基于硅的可控整流器(SCR)的器件的设计,表征和紧凑模型,用于集成电路中的静电放电(ESD)保护应用。
机译:具有嵌入式PMOSFET的鲁棒和锁定的免疫LVTSCR器件用于28 nm CMOS过程中的ESD保护
机译:具有嵌入式PMOSFET的鲁棒和锁定的免疫LVTSCR器件,用于28 nm CMOS过程中的ESD保护
机译:Hrtem图像模拟栅氧化层中的结构缺陷。
机译:具有动态控制的阻塞结的LVTSCR ESD保护钳
机译:级联LVTSCR和ESD保护电路
机译:用于亚微米CMOS集成电路的互补LVTSCR ESD保护电路
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