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王海成; 龚占双; 王立锦; 于广华;
中国真空学会;
钴基薄膜材料; 诱导磁场; 化学沉积法; 磁性能;
机译:高磁场对不同厚度和生长速率的纳米Ni薄膜生长,磁和电性能的影响
机译:电解化学沉积法对三元表面活性剂诱导的低碳钢表面Zn-Ni-Al 2 SUB> O 3 SUB>薄膜的性能评价
机译:静磁能对Ni-Mn-Ga中磁驱动力和磁场诱导的超弹性行为的影响
机译:在Ni-Co-Mn-Al成磁形状记忆合金中磁场诱导磁场诱导转化的原位观察
机译:PR2IR2O7和MN3XN(X = GA,Ni)令人沮丧的磁系统的外延薄膜的合成与性能
机译:硫化时间对电化学沉积铜锌锡硫化薄膜性能的影响
机译:三元表面活性剂诱导的Zn-Ni- ud的性能评估电解化学沉积在低碳钢上的Al2O3薄膜
机译:磁场和磁同位素对光诱导乳液聚合的影响。
机译:Ni厚度对Ni诱导的非晶硅横向结晶对多晶硅TFT截止态电流的影响
机译:集成电路的电化学薄膜Ni 81 Sub> Fe 19 Sub>的电化学沉积方法
机译:用于集成微系统的局部薄膜坡莫合金Ni81 Fe19的电化学沉积方法
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