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Silicon Quantum Dot Precursor, Silicon Quantum Dot, Silicon Quantum Dot Precursor Manufacturing Method and Silicon Quantum Dot Manufacturing Method

机译:硅量子点前驱体,硅量子点,硅量子点前驱体制造方法和硅量子点制造方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicon quantum dot precursor, a silicon quantum dot, a method for producing a silicon quantum dot precursor, and a method for producing a silicon quantum dot whose characteristics can be controlled by adjusting the structure of an HSQ polymer. A silicon quantum dot precursor according to the present invention comprises a hydrogen silsesquioxane polymer having a methoxy group represented by CH 3O1.5 . Further, the method for producing a silicon quantum dot precursor according to the present invention includes an alcohol mixing step of mixing trichlorosilane and alcohol to form a mixture, and reacting the mixture with water to produce a hydrogen silsesquioxane polymer. Including a polymer synthesis step. [Selection diagram] Fig. 1
机译:需要解决的问题:提供一种硅量子点前体,一种硅量子点,一种生产硅量子点前体的方法,以及一种生产硅量子点的方法,其特征可以通过调节HSQ聚合物的结构来控制。根据本发明的硅量子点前体包含氢倍半硅氧烷聚合物,其具有由CH3O1表示的甲氧基。5.此外,根据本发明的制备硅量子点前体的方法包括混合三氯氢硅和醇以形成混合物的醇混合步骤,并使该混合物与水反应以产生氢倍半硅氧烷聚合物。包括聚合物合成步骤。[选择图]图1

著录项

  • 公开/公告号JP2022048615A

    专利类型

  • 公开/公告日2022-03-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国立大学法人広島大学;

    申请/专利号JP20200154517

  • 发明设计人 齋藤 健一;

    申请日2020-09-15

  • 分类号C01B33/021;C08G77/12;B82Y30;B82Y40;C09K11/59;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-25 00:16:13

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