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Thinner composition for improving applying performance a photosensitive resin and anti-reflective coating, and removing the photosensitive resin and anti-reflective coating

机译:用于改善应用性能和抗反射涂层的较薄组合物,并除去光敏树脂和抗反射涂层

摘要

The present invention provides a photosensitive resin comprising (a) C2 to C4 alkylene glycol, C1 to C4 alkyl ether acetate, (b) C1 to C10 alkyl lactate, and (c) cyclopentanone, and a thinner composition for removing antireflection film do.
机译:本发明提供一种感光性树脂,其包含(a)C 2至C4亚烷基二醇,C1至C4烷基醚乙酸酯,(b)C1至C10烷基乳酸盐,和(C)环戊酮,以及用于除去抗反射膜的更薄的组合物。

著录项

  • 公开/公告号KR102347910B1

    专利类型

  • 公开/公告日2022-01-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020160147689

  • 发明设计人 양윤석;조용준;이경호;

    申请日2016-11-07

  • 分类号G03F7/42;C11D11;C11D3/20;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 23:25:55

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