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THINNER COMPOSITION FOR REMOVING A PHOTOSENSITIVE RESIN AND ANTI-REFLECTIVE COATING, AND METHOD FOR REMOVING PHOTOSENSITIVE RESIN AND ANTI-REFLECTIVE COATING

机译：用于去除光敏树脂和抗反射涂层的更薄组合物，以及去除光敏树脂和抗反射涂层的方法

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摘要

The present invention provides a thinner composition comprising (a) C2-C4 alkylene glycol C1-C4 alkyl ether acetate, (b) cyclopentanone and (c) a compound represented by a specific formula, and a method for removing a photosensitive resin and an anti-reflection film provides

机译：本发明提供一种更薄的组合物，其包含（a）C2-C4亚烷基二醇C1-C4烷基醚乙酸酯，（b）环戊酮和（c）由特定式表示的化合物，以及除去光敏树脂和抗的方法。 -reflection薄膜提供

著录项

公开/公告号KR20210074188A

专利类型
公开/公告日2021-06-21

原文格式PDF
申请/专利权人 동우 화인켐 주식회사;
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申请/专利号KR1020200165183
发明设计人 김성식;김정현;방순홍;김태희;이영재;
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申请日2020-11-30
分类号G03F7/42;C11D11;C11D7/26;
国家 KR
入库时间 2022-08-24 19:49:44

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