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ADVANCED ELECTRONIC DEVICE STRUCTURES USING SEMICONDUCTOR STRUCTURES AND SUPERLATTICES

机译:使用半导体结构和超晶格的先进电子设备结构

摘要

A semiconductor structure and a method of forming the semiconductor structure are disclosed. For example, p-type or n-type semiconductor structures are disclosed. The semiconductor structure has a polar crystal structure having a growth axis substantially parallel to an axis of spontaneous polarization of the polar crystal structure. The semiconductor structure is changed in composition from a wider band gap (WBG) material to a narrower band gap (NBG) material or from a NBG material to a WBG material to induce a p-type or n-type conductivity along the growth axis.
机译:公开了一种半导体结构和形成半导体结构的方法。 例如,公开了p型或n型半导体结构。 半导体结构具有极性晶体结构,其具有基本平行于极性晶体结构的自发偏振轴的生长轴。 半导体结构在从更宽的带隙(WBG)材料中的组合物中改变为较窄的带隙(NBG)材料或从NBG材料到WBG材料,以促使沿生长轴的p型或n型导电性。

著录项

  • 公开/公告号KR102318317B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-10-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020167033172

  • 申请日2015-05-01

  • 分类号H01L33;H01L21/02;H01L33/06;H01L33/10;H01L33/14;H01L33/18;H01L33/32;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 21:59:17

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