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Vacancy defect control apparatus of transition metal dichalcogenides

机译:过渡金属二硫代甲基化物的空位缺陷控制装置

摘要

According to an aspect of the present invention, a two-dimensional structure of a transition metal dichalcogen compound (TMD) is filled therein and a reaction furnace providing a heated space; a gas mixing unit connected to the reactor by a pipe and injecting a mixture of carbon monoxide (CO) and carbon dioxide (CO 2 ) into the reactor; a first gas supply unit supplying carbon monoxide (CO) gas to the gas mixing unit and a second gas supply unit supplying carbon dioxide (CO 2 ) gas; an anion supply unit provided on an external side of the reactor to supply a chalcogen anion into the reactor; a product detection unit provided at the rear end of the reactor to detect the product gas discharged from the reactor; and an oxygen sensor provided at the rear end of the reactor to sense the partial pressure of oxygen.
机译:根据本发明的一个方面,其中填充了过渡金属二甲烷化合物(TMD)的二维结构,并提供了提供加热空间的反应炉; 通过管道连接到反应器的气体混合单元并将一氧化碳(CO)和二氧化碳(CO 2)的混合物注入反应器中; 第一气体供应单元向气体混合单元供应一氧化碳(CO)气体和供应二氧化碳(CO 2)气体的第二气体供应单元; 一个阴离子供应单元,在反应器的外侧提供,以将硫芥子阴离子供应到反应器中; 一种产品检测单元,在反应器的后端设置,以检测从反应器排出的产品气体; 和提供在反应器的后端的氧传感器,以感测氧的分压。

著录项

  • 公开/公告号KR102317510B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020190169044

  • 发明设计人 주영창;김지용;

    申请日2019-12-17

  • 分类号C01G39/06;B01J19;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 21:53:55

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