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High Sb Concentration GaAsSb/GaAs(1-x)SbxN/GaAlAs Core-Shell-Shell Nanowires

机译:高Sb浓度盖卡/ GaAs(1-X)SBXN / Gaalas核心 - 壳 - 壳纳米线

摘要

Compositions comprising Group V/III nanowires, and methods of making such nanowires are described. Some compositions comprise one or more core-shell nanowires comprising a core and a first shell surrounding or substantially surrounding the core. The core is formed from GaAs(1-y)Sby, where y=about 0.03-0.07 and the first shell is formed from GaAs(1-x)SbxN, where x=0.27-0.34. The nanowires have an average emission maximum of 1.4-1.7 μm. Some nanowires further comprise a second shell surrounding or substantially surrounding the first shell. The second shell is formed from a Group V/III material such as Ga1-mAlmAs, where m=0-0.2. Some nanowires have the structure GaAs(0.93-0.97)Sb(0.03-0.07)/GaAs(0.66-0.73)Sb(0.27-0.34)N/Ga(0.8-1)Al(0-0.2)As.
机译:描述了包含v / III纳米线的组合物,以及制备这种纳米线的方法。 一些组合物包括一个或多个芯壳纳米线,其包括芯和周围的第一壳体或基本上围绕芯的第一壳体。 核心由GaAs(1-Y)SBY形成,其中Y =约0.03-0.07和第一壳由GaAs(1-x)Sbxn形成,其中x = 0.27-0.34。 纳米线的平均发射最大为1.4-1.7μm。 一些纳米线还包括围绕或基本上围绕第一壳的第二壳体。 第二壳由v / III族材料形成,例如Ga1-Malmas,其中M = 0-0.2。 一些纳米线具有结构GaAs(0.93-0.97)Sb(0.03-0.07)/ GaAs(0.66-0.73)Sb(0.27-0.34)n / ga(0.8-1)Al(0-0.2)。

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