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HIGH THERMAL STABILITY SiOX DOPED GeSbTe MATERIALS SUITABLE FOR EMBEDDED PCM APPLICATION

机译:高热稳定性SiOx掺杂GESBTE材料适用于嵌入式PCM应用

摘要

A phase-change material having specific SiOx doping into special Ge-rich GexSbyTez material is described. Integrated circuits using this phase-change material as memory elements in a memory array can pass the solder bonding criteria mentioned above, while exhibiting good set speeds and demonstrating good 10 year data retention characteristics. A memory cell described herein comprises a first electrode and a second electrode; and a memory element in electrical series between the first and second electrode. The memory element comprises a GexSbyTez phase change material with a silicon oxide additive, including a combination of elements having Ge in a range of 28 to 36 at %, Sb in a range of 10 to 20 at %, Te in a range of 25 to 40 at %, Si in a range of 5 to 10 at %, and O in a range of 12 to 23 at %.
机译:描述了将具有特定SiOx掺杂到特殊GE的GEXSBYTEZ材料中的相变材料。 使用该相变材料作为存储器阵列中的存储器元件的集成电路可以通过上述焊接键合标准,同时表现出良好的设定速度并展示良好的10年数据保留特性。 这里描述的存储器单元包括第一电极和第二电极; 和第一和第二电极之间的电串的存储元件。 存储元件包括具有氧化硅添加剂的Gexsbytez相变材料,包括GE在28至36at%范围内的元素的组合,在10至20at%的范围内,Te在25至 在5至10at%的范围内为0.%,Si,o在12至23at%的范围内。

著录项

  • 公开/公告号US2021305507A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MACRONIX INTERNATIONAL CO. LTD.;

    申请/专利号US202016833349

  • 发明设计人 HUAI-YU CHENG;HSIANG-LAN LUNG;

    申请日2020-03-27

  • 分类号H01L45;G11C11/56;H01L23/488;H01L23/12;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 21:21:41

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