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Single crystal growth method which includes covering a part of a surface of a raw material for sublimation with a metal carbide powder

机译:单晶生长方法,包括用金属碳化物粉末覆盖原料的表面的一部分

摘要

The present invention provides a single crystal growth method capable of suppressing the recrystallization of the raw material gas subjected to sublimation on the surface of the raw material, and suppressing the generation of different polytypes in the crystal growing single crystal. The single crystal growth method is carried out in a crucible comprising an inner bottom for providing a raw material and a crystal mounting part facing the inner bottom. The method comprises in the following order: providing the raw material in the inner bottom; covering at least a part of a surface of the raw material with a metal carbide powder in a plan view from the crystal mounting part; and growing a single crystal disposed in the crystal mounting part by sublimating the raw material by heating.
机译:本发明提供一种能够抑制在原料表面上进行升华的原料气体的重结晶的单晶生长方法,并抑制在晶体生长单晶中的不同聚晶体的产生。 单晶生长方法在包含内底的坩埚中进行,用于提供面向内底的原料和晶体安装部分。 该方法按以下顺序包括:在内底提供原料; 用晶体安装部分的平面图中的金属碳化物粉末覆盖原料的表面的至少一部分; 通过加热使原料升华来生长在晶体安装部分中设置在晶体安装部分中的单晶。

著录项

  • 公开/公告号US11111599B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHOWA DENKO K.K.;

    申请/专利号US201916559875

  • 发明设计人 YOHEI FUJIKAWA;

    申请日2019-09-04

  • 分类号C30B23/06;C30B29/60;C30B29/36;C30B23;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 20:52:42

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