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Photo-cathode manufacturing method, photo-cathode and photoelectrochemical water decomposition method using the same

机译:光阴极制造方法,光阴极和光电化学水分解方法使用相同

摘要

The photoelectrochemical water decomposition photo-cathode manufacturing method according to the present invention uses a) a first liquid including a first chalcogen source, a first before and after metal source, a diamine-based solvent and a mercapto alcohol-based solvent on a conductive film to form a light absorption film of the metal chalcogenide after the transition; and b) a second chalcogen source providing the same kind of chalcogen as the first chalcogen source on the light absorption film, and a second post-transition metal source providing the same kind of post-transition metal as the first post-transition metal source. , Using a second liquid containing an alkanolamine-based solvent and a mercapto acid-based solvent, the nanorod structure of the post-transition metal chalcogenide extending from the light absorption film and the same as the post-transition metal chalcogenide of the light absorption film Including; forming a.
机译:根据本发明的光电化学水分解光阴极制造方法使用A)第一液体,包括第一硫代硫代原源源,第一前后金属源,二胺基溶剂和导电膜上的巯基醇类溶剂。 在过渡后形成金属硫属化物的光吸收膜; B)第二硫型源,其提供与光吸收膜上的第一硫代硫代硫代硫代硫源相同的硫代硫源,以及提供与第一后金属源相同的后过渡金属后的第二过渡金属源。 ,使用含有链烷醇胺的溶剂的第二液体和巯基酸性溶剂,从光吸收膜延伸的后过渡后金属硫属化物的纳米棒结构与光吸收膜的后过渡后金属硫属化物相同 包含; 形成一个。

著录项

  • 公开/公告号KR20210099773A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 연세대학교 산학협력단;

    申请/专利号KR1020200013545

  • 发明设计人 문주호;박재민;양우석;

    申请日2020-02-05

  • 分类号C25B11/04;C23C18/12;C25B1;C25B1/04;B82Y40;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 20:36:54

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