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Silicon photonics platform with integrated oxide trench edge coupler structure

机译:硅光子平台综合氧化型氧化物沟槽边缘耦合器结构

摘要

Embodiments disclosed herein generally relate to optical coupling between a highly-confined waveguide region and a low confined waveguide region in an optical device. The low confined waveguide region includes a trench in a substrate of the optical device in order to provide additional dielectric layer thickness for insulation between the substrate of the optical device and waveguides for light signals having a low optical mode. The low confined waveguide region is coupled to the highly-confined waveguide region via a waveguide overlap and in some embodiments via an intermediary coupling waveguide.
机译:本文公开的实施例一般涉及光学装置中的高限孔波导区域和低限制波导区域之间的光学耦合。低限制波导区域包括在光学装置的基板中的沟槽,以便提供用于在光学装置的基板之间的绝缘层的附加介电层厚度,以及具有低光学模式的光信号的波导。低限制波导区域经由波导重叠和通过中间耦合波导的一些实施例耦合到高度限制的波导区域。

著录项

  • 公开/公告号US11067750B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CISCO TECHNOLOGY INC.;

    申请/专利号US201916259998

  • 申请日2019-01-28

  • 分类号G02B6/122;G02B6/293;G02B6/136;G02B6/12;G02B6/30;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 20:01:18

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