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HIGH POWER GALLIUM NITRIDE ELECTRONICS USING MISCUT SUBSTRATES

机译:使用剪切基材的高功率氮化镓电子器件

摘要

The electronic device has a hexagonal crystal structure, And a III-V substrate having a normal to the growth surface with a misalignment from the direction of 0.15° to 0.65°. The electronic device also includes a first epitaxy layer connected to the III-V substrate and a second epitaxy layer connected to the first epitaxy layer. The electronic device further includes a first contact in electrical contact with the substrate and a second contact in electrical contact with the second epitaxy layer.
机译:电子器件具有六边形晶体结构,以及具有正常的生长表面的III-V衬底,其未对准从0.15°至0.65°的方向。电子设备还包括连接到III-V衬底的第一外延层和连接到第一外延层的第二外延层。电子设备还包括与基板电接触的第一接触和与第二外延层电接触的第二接触。

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