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SUBSTRATE WARPING MONITORING DEVICE, SUBSTRATE WARPING MONITORING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE-TYPE SENSOR

机译:基板翘曲监控装置,基板翘曲监测方法,基板处理设备和基板式传感器

摘要

The present invention includes: a sensing unit detachably attached to a substrate to detect information on warpage generated in a substrate while a processing process for the substrate is performed; By including a processor that generates information on the bending state of the substrate from the bending information detected by the sensing unit, the bending deformation of the substrate can be more accurately monitored by a simple configuration.
机译:本发明包括:一种感测单元,其可拆卸地连接到基板,以检测关于在基板中产生的翘曲的信息,同时执行基板的处理过程;通过包括从感测单元检测到的弯曲信息产生关于基板的弯曲状态的处理器,可以通过简单的配置更精确地监控基板的弯曲变形。

著录项

  • 公开/公告号KR20210052764A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 세메스 주식회사;

    申请/专利号KR1020190137479

  • 发明设计人 서용준;손상현;하상민;안동옥;

    申请日2019-10-31

  • 分类号H01L21/66;H01L21/67;H05K1/18;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 18:47:41

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