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Electrostatic discharge (ESD) protection circuits using tunneling field effect transistor (TFET) and impact ionization MOSFET (IMOS) devices

机译:静电放电(ESD)保护电路采用隧道场效应晶体管(TFET)和冲击电离MOSFET(IMOS)器件

摘要

Electrostatic discharge (ESD) protection is provided in circuits which use of a tunneling field effect transistor (TFET) or an impact ionization MOSFET (IMOS). These circuits are supported in silicon on insulator (SOI) and bulk substrate configurations to function as protection diodes, supply clamps, failsafe circuits and cutter cells. Implementations with parasitic bipolar devices provide additional parallel discharge paths.
机译:在电路中提供静电放电(ESD)保护,其使用隧道场效应晶体管(TFET)或冲击电离MOSFET(IMOS)。这些电路在绝缘体(SOI)上的硅和散装基板配置中支撑,以用作保护二极管,供应夹具,故障安全电路和刀具单元。具有寄生双极器件的实现提供额外的并联放电路径。

著录项

  • 公开/公告号US10998721B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 STMICROELECTRONICS INTERNATIONAL N.V.;

    申请/专利号US201815908878

  • 发明设计人 RADHAKRISHNAN SITHANANDAM;

    申请日2018-03-01

  • 分类号H02H9/04;H01L23/528;H01L27/02;H01L29/08;H01L27/12;H01L29/78;H01L27/06;H01L29/06;H01L29/739;H01L29/87;H01L29/73;H01L49/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 18:31:33

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