机译:一种制备聚酰亚胺前体的方法,一种制备光敏树脂组合物的方法,制备图案固化产物的方法,制备层间绝缘膜,覆盖层或表面保护膜的方法,以及生产方法电子元件。
公开/公告号JPWO2019193647A1
专利类型
公开/公告日2021-04-30
原文格式PDF
申请/专利权人 HDマイクロシステムズ株式会社;
申请/专利号JP20200512131
申请日2018-04-03
分类号C08G73/10;C08F290/14;G03F7/027;G03F7/20;
国家 JP
入库时间 2022-08-24 18:30:11